四甲基氫氧化銨(TMAH)溶液，在晶片生產(chan) 中用作CMP(化學機械拋光)預清洗劑，或在半導體(ti) 領域的光刻工藝中作為(wei) 顯影劑。為(wei) 了*潤濕晶片表麵，通常會(hui) 在TMAH溶液中加入表麵活性劑以降低其表麵張力。確保一個(ge) 穩定且不與(yu) 表麵幾何形狀相關(guan) 的蝕刻過程。
動態表麵張力(隨時間變化的潤濕行為(wei) )對塗層的均勻性和一致性有著非常重要的影響，靜態測量法如吊片和拉環的方法並不適用於(yu) 這類問題的分析，因為(wei) 他們(men) 測量的是靜態表麵張力而非動態表麵張力。此外，使用靜態法測量後，必須對測試設備進行非常複雜的清洗，這會(hui) 耗費大量的時間。德國SITA公司根據不同的應用領域，提供不同的解決(jue) 方案以檢測槽液配方的表麵張力。基於(yu) 創新的氣泡壓力法，SITA表麵張力儀(yi) 可以、快速的測量動態表麵張力，從(cong) 動態到準靜態的表麵張力 。
SITA DynoTester是一個(ge) 非常靈活、輕便的手持式表麵張力測試儀(yi) ，非常適用於(yu) 工藝過程中質量的監控，可進行現場測量，測試時間短，測試結果能立即與(yu) 所需值作對比。因此，SITA DynoTester 可對TMAH溶液的潤濕性能進行簡便快捷的分析。操作簡單，無需任何專(zhuan) 業(ye) 經驗，儀(yi) 器的所有功能都可通過儀(yi) 器上的按鍵實現。
對於(yu) 高要求的TMAH溶液，以及需對檢測結果進行連續監控的情況，SITA 公司推薦使用過程監控係統--SITA Clean Line ST。這一係統直接集成在工藝過程中，定期測量表麵張力，並在設定的範圍內(nei) 自動比較數據，因此我們(men) 可在表
麵活性劑濃度超出限定值後，在短時間內(nei) 采取相關(guan) 處理措施。設備至少可以儲(chu) 存一整年的測試數據，如果需要進行長期數據存儲(chu) ，則可以通過USB 端口將數據傳(chuan) 輸到計算機。 SITA的表麵張力儀(yi) 可以可靠的監控槽液的質量，為(wei) 研發和清洗工藝過程建立良好的基礎進而獲得高質量結果。此外，表麵張力檢測還能避免過量使用表麵活性劑，從(cong) 而降低生產(chan) 成本。
SITA Dynotester 表麵張力儀(yi)
